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真空镀铝膜的生产工艺:
真空蒸镀工艺有间接式蒸镀和直接蒸镀两种。直接蒸镀工艺有间歇式、半连续式和连续式三种设备。连续蒸镀设备的关键是被蒸的基材膜放在真空室外面的，可以自动翻卷换卷，它同真空室通过气锁( air lock)或者动力泵室( dynamics pumped chamber)的密封缝隙使基材膜进出。气锁有良好的密闭性，因而可以连续地进行蒸镀。而不会影响高真空室中
的真空度。
间歇式工艺的优点是 : (1) 投资成本比较低; (2) 系统可以容易地根据不同的基材和部件重新安放支架，易变换真空室中的部件; (3) 很容易变更蒸发系统来适应不同基材的不同蒸镀金属; (4) 操作和维修保养都比较简单;(5)设备可靠性大，无需特别的设计。最大的缺点是开始生产时为了把墙壁和机械件上的水蒸气排出，需要较长的时间，能量的利用率低。
连续式工艺的优点是: (1) 生产效率比较高，不需要重新启动所需的时间和泵到高真空时的能量; (2) 涂布质量较高，针孔比较少; (3) 成本比较低，由于节省了重新启动泵抽到高真空的能量，为此，可节省电能。最大缺点是设备投资大，而且需要专门的技术，维修保养要求技术高。蒸镀膜的基材宽度在609.6～2133.6mm，薄膜通过力矩马达来自动控制放卷和收卷的速度，使之始终有一个均匀的恒定的线速度，因而有一个均匀的镀膜厚度。镀膜厚度靠铝丝的挥发速度、薄膜的线速度来调控。提高熔融坩埚电流量，放大熔融气化速度，可以使镀层厚度提高，相反，提高薄膜收放卷速度，则使镀层厚度减小。薄膜收放卷是用两只同步力矩马达带动的。